采用光刻机进行设计图案的光刻，通常需要百纳米纳米至微米级别的光刻精度，由于微流道精度暂时无需达到半导体芯片尺度，所以设备相对无需过于精细化。
采用蚀刻机在晶圆上直接形成微流道，由于微流道的形态、粗糙度、尺寸均一性将对实际使用中的流体形态造成最直接的影响，通常一个新的微流道设计需要进行多次的蚀刻参数调整和打样以达到最优的微流道形成效果。
为了使得微流道表面性质能够更加稳定的输送不同类型的微球原液，在微流道封闭前还需要进行表面的改性，放大微流道表面有利于微流体控制的各项特性。
前面的工作还仅仅是在形成一个开放式的微流道，为了使其真正成为微流控微流道，还需要进行封闭，既是晶圆键合，为了适应不同尺寸微流道在同一层级甚至多层键合需求，设备的结构需要根据微流控芯片进行调整，并且为了保证完全键合及其最终的强度，不同的微流控芯片将采用其特定的设备参数。
搭载基于全球领先的微流控（Microfluids，μF）技术开发的高通量微球生成芯片的高度自动化微球制备平台，用于多种类型的纳米、微米级别的功能性微球和生物粒子的分选、制备和工业级大批量生产。
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